기존 전파 분석 기술 연장선인 플라즈마 진단으로 상용화 속도 극대화
해외 기업이 독점하던 RF 진단장비 수입 대체 효과 기대하며 공급망 구축 박차

[보안뉴스 조재호 기자] 지슨이 무선주파수(RF: Radio Frequency) 원천기술을 바탕으로 반도체 공정 진단장비 시장에 진출한다.



지슨은 지난 17일 이사회를 열고, 신사업 추진을 위한 정관 변경 안건을 의결했다. 이번 반도체 공정 진단장비 개발은 회사가 지난 20년간 무선 보안 영역에서 축적해 온 무선 측정·분석 기술을 반도체 산업으로 확장하는 행보로 풀이된다.

새롭게 개발할 플라즈마 진단 기술은 지슨의 핵심 기술인 전파 분석 기반 기술의 연장선상에 있다. 이는 신사업 진출 시 발생할 수 있는 연구개발 리스크를 최소화하고 상용화 시기를 앞당겨 현장 적용 속도를 높일 수 있다.

전방 시장의 폭발적인 수요와 우호적인 환경도 지슨의 신사업 타당성을 뒷받침한다. 국제반도체장비재료협회(SEMI)에 따르면 글로벌 반도체 장비 매출 규모는 지난 2024년 1171억달러에서 지난해 1351억달러로 약 15% 성장했으며, 국내 제조장비 투자 규모만 258억달러(38조911억원)에 달한다.

RF 기반 반도체 공정 진단장비는 소수의 해외 기업이 독점하고 있어 국내 제조사들의 국산화 요구가 꾸준히 제기된 분야다. 지슨은 기술 자립을 통한 수입 대체 효과를 유도해 국내 주요 반도체 기업들과 공급망을 구축할 계획이다.

지슨 관계자는 “해외 의존도가 높은 반도체 공정 진단장비의 국산화는 국가적 과제이자 지슨의 비약적인 성장을 이끌 핵심 과제”라며 “검증된 원천기술이 적용된 만큼 근시일 내 구체적인 상용화 로드맵을 제시하고 가시적인 성과를 입증하겠다”고 말했다.



[조재호 기자(zephyr@boannews.com)]

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